【KISTECより】ナノファブスクエアin海老名開催のお知らせ2020年10月02日
ナノファブスクエアin海老名について
当研究所では、慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムと、川崎市とで連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、海老名本部の先端機器による「ナノファブスクエアin海老名」講習・実習会を開催します。
◆第3回 シリコン酸化
シリコン表面に酸化膜を形成し、フォトリソグラフィでシリコンマイクロ流路の酸化膜マスクパターンを作製します。Crマスクは電子線描画で作成したものを使用します。
日 程:10月15日(木) 13:30~16:30
受 講 料:11,000円
募集締切:10月8日(木)
詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano3/
◆第4回 ナノパターン形成
シリコン上のレジストに電子線描画でナノパターンを形成して、レジストパターン(ハーフピッチ200nm)を観察し、電子線描画技術の基本を実習します。
日 程:10月22日(木) 13:30~16:30
受 講 料:11,000円
募集締切:10月15日(木)
詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano4/
<問い合わせ>
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)
人材育成部 教育研修課 産業人材研修グループ
TEL:046-236-1500 FAX:046-236-1527 E-mail:sm_sangyoujinzai@kistec.jp